Будучи портативным УФ-спектрометром для плазмы, он позволяет инженерам достичь высокой точности контроля плазмы, повышая эффективность таких приложений, как осаждение тонких пленок методом PECVD и УФ-спектральный анализ для травления полупроводников.







